韩国芯片制造商将减少对EUV工艺的核心溶剂进口
据报道称，韩国芯片制造商预计将减少对EUV工艺核心溶剂的进口，因为当地公司已成功大规模生产该材料。
据悉，石化和电子材料制造商Jaewon Industrial Co.实现了丙二醇甲基醚乙酸酯(PGMEA)的商业化，PGMEA是半导体行业常用的一种溶剂，用于在硅晶圆上应用表面粘合剂。
数据显示，日本企业在全球半导体材料市场的占有率达超过50%，其中市场份额超过70%的材料主要包括硅晶圆、光罩、光刻胶以及封测材料陶瓷板、焊线等。
然而，自2019年7月1日日本宣布对生产芯片和OLED的关键的半导体材料蚀刻气体（氟化氢）、氟化聚酰亚胺和光刻胶对韩国限制出口之后，韩国就一直在积极推动半导体材料本地化生产的进程，加紧推进半导体材料替代。
Jaewon于2018年开发了自己的PGMEA合成技术，该公司去年将PGMEA产能扩大到3万吨以进行大规模生产，该公司预计韩国芯片制造商将在上半年开始将其PGMEA用于EUV工艺，从而每年减少约1000亿韩元（8370万美元）的溶剂进口。
PGMEA由半导体用稀释剂制成，在EUV曝光过程中清洗没有EUV光敏反应的部件上的光刻胶。当在曝光过程之前将其应用于晶圆时，该溶剂还有助于以较少的量均匀分布感光材料。通过EUV工艺制造的半导体具有非常精细的电路，因此非常小的杂质就会降低产量。EUV工艺需要纯度为99.999%或更高的PGMEA。
在2021年，韩国方面曾表示，日本对韩国采取出口限制措施后，韩国两年来自主确保材料、零部件和设备。
在氟化氢方面，韩国对日本依赖度从近50%降至20%以下；氟聚酰亚胺已确保自主技术并进行出口；韩国光刻胶也即将在韩国内进行量产；韩国材料、零部件和设备百大核心项目的对日依赖度从31.4%降至24.9%。
近几年，疫情导致全球半导体芯片短缺，这也进一步凸显了本土采购的重要性，同时促使各国纷纷加码投资半导体原材料，设备、生产、封测等环节的投资。
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